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  • 刻蝕系統(tǒng)

    簡要描述:刻蝕系統(tǒng)三到六個端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設備,以滿足研發(fā)的要求。樣品可以...

    型號: 所在地:參考價: 面議更新時間:2025/1/1 5:04:05 對比
  • 集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統(tǒng)

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